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      走近晶圓吸附
      晶圓吸附是指在晶圓表面附著一層化學物質,用以改變晶圓表面的物理化學性質,從而實現對半導體器件的制備和性能調節。吸附方式的選擇對于半導體器件的質量和性能有著重要影響。
      來源: | 作者:pmoe2a7d5 | 發布時間: 2024-01-31 | 1037 次瀏覽 | 分享到:

      一、晶圓吸附的作用:

      固定晶圓:在劃片機劃切過程中,晶圓需要被固定在吸盤上,以確保劃切過程的穩定性和準確性。通過真空吸附或機械夾持,拋光頭可以將晶圓牢固地固定在位,防止其在拋光過程中發生移動或滑動。

      保證表面平坦度:在拋光過程中,晶圓需要保持穩定,以實現精確的拋光控制,從而保證所需的表面平坦度。通過晶圓吸附,可以減少因晶圓移動或滑動而導致的表面不平整等問題,提高拋光后晶圓的表面質量。

      施加壓力:在拋光過程中,通過施加壓力,拋光頭確保晶圓表面與拋光墊緊密接觸,促進均勻的材料去除。施加的壓力可以全局或局部調整,以適應不同的拋光要求,但需要確保壓力均勻分布,避免不均勻的拋光。

      帶動晶圓旋轉:拋光頭本身可以旋轉,通過吸附作用帶動晶圓一起旋轉。旋轉的晶圓與拋光墊有一個相對運動速度,確保整個晶圓表面與拋光墊接觸的時間和強度均勻一致,有助于實現晶圓表面材料的均勻去除。

      集成終點檢測:在CMP設備中,拋光頭集成了終點檢測技術,用于確定何時停止拋光,以避免晶圓材料被過度拋光。通過吸附作用與終點檢測技術的結合,可以提高CMP工藝的效率和精度。

      二、晶圓吸附的類型:

      機械真空吸附:通過真空泵創建負壓環境,真空泵用于從吸附區域抽氣,從而降低壓力,在晶圓與吸附盤之間產生真空區域。通常需要密封圈來確保吸附區域的密封,防止外界空氣進入。這樣可以產生足夠的吸力來穩定地吸附晶圓。

      優點

      1.可靠性:能提供穩定的吸附力,確保晶圓在加工過程中的穩定性。

      2.通用性:適用于不同尺寸和類型的晶圓,靈活性較高。

      3.維護相對簡單:機械真空吸附系統較易維護。

      缺點

      1.潛在的損傷風險:如果真空失效或操作不當,可能會損壞晶圓。

      2.對超薄晶圓的適用性:對于極為脆弱或超薄的晶圓。

      應用

      晶圓搬運:在半導體制造過程中,晶圓需要經過多個加工步驟,每個步驟都需要將晶圓從一個工位搬運到另一個工位。真空機械吸附技術能夠穩定、準確地吸附和搬運晶圓,確保其順利傳遞到下一個加工環節。

      晶圓表面處理:在晶圓表面處理過程中,如涂膠、鍍膜等,真空機械吸附技術能夠提供穩定的吸附力,使晶圓固定在處理設備上,確保處理過程的順利進行。

      晶圓檢測:在晶圓檢測環節,真空機械吸附技術能夠將晶圓穩定地放置在檢測平臺上,以便進行各種檢測和觀察,如缺陷檢測、表面形貌分析等。

      晶圓切割與劃片:在晶圓切割和劃片過程中,真空機械吸附技術能夠提供穩定的吸附力,確保切割和劃片的精度和一致性。

      晶圓封裝與測試:在晶圓封裝與測試環節,真空機械吸附技術能夠將晶片精準地放置在封裝盒中,并進行可靠的固定,以便進行后續的測試和驗證。

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