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      濕法刻蝕
      專業主攻晶圓級濕法刻蝕液的廠家?刻蝕液種類和性能?晶圓級刻蝕液與傳統行業的刻蝕液的區別?目前晶圓級刻蝕液市場?
      來源: | 作者:pmoe2a7d5 | 發布時間: 2024-02-01 | 9626 次瀏覽 | 分享到:

      刻蝕工藝是半導體制造工藝中的一種重要步驟,主要是在光刻完成后對硅片表面進行有選擇性的化學或物理腐蝕,以將硅片表面多余的材料去除,達到預期的圖形??涛g工藝包括濕法化學刻蝕和干法刻蝕兩種。濕法化學刻蝕是將硅片浸入化學溶劑或向硅片上噴灑刻蝕溶劑,通過化學反應去除硅片表面的材料。這種方法適用于多晶硅、氧化物、氮化物、金屬和Ⅲ-Ⅴ族化合物等表面刻蝕。

      一、濕法刻蝕普遍存在的原因?

      1.成本問題。干法刻蝕機臺實在太昂貴了,電力、氣體和維護成本都很高;而濕法刻蝕一般是簡單的化學溶液槽,再加上超聲波,加熱系統等,一臺浸泡式濕法刻蝕機就做好了,而且化學刻蝕液的成本低廉。

      2.操作簡單。濕法刻蝕技術相對簡單,易于操作和維護,刻蝕速率快,便于批量化生產。

      3.針對特殊應用。有些產品中某些材料并不適合干法刻蝕,必須用濕法刻蝕,比如Cu。

      二、濕法刻蝕及其應用?

      濕法刻蝕主要是除去不希望留下的薄膜。而濕法清洗主要是洗去顆?;蛏弦还ば蛄粝碌臍埩?。比如cmp研磨后,在晶圓表面有大量的顆粒污染,就需要有cmp后清洗的步驟。濕法刻蝕可用于芯片制造中。除了集成電路極小部分制程需要外,非集成電路的大部分產品都會用到。換句話說,只要刻蝕要求不是那么嚴格(3um),都能用濕法刻蝕來替代干法刻蝕。集成電路主要包括模擬器件,邏輯,微處理器,存儲等,而非集成電路一般包括mems傳感器,光電器件,分立器件等。

      三、濕法刻蝕液的種類有哪些?

      1.導體濕法刻蝕液

      銅刻蝕液,鋁刻蝕液,Cr刻蝕液,Ti刻蝕液,金刻蝕液,鎳刻蝕液,錫刻蝕液,Ta刻蝕液,鉍刻蝕液,鈷刻蝕液等。

      2.絕緣體刻蝕液

      氧化硅刻蝕液,氮化硅刻蝕液,氧化鋁刻蝕液,藍寶石刻蝕液,碳刻蝕液,環氧樹脂刻蝕液,光刻膠剝離液等。

      3.半導體刻蝕液

      硅刻蝕液,SiC刻蝕液,砷化鎵刻蝕液,砷化銦鎵刻蝕液,磷化銦鎵刻蝕液,InP刻蝕液,磷化氧化銦刻蝕液。

      四、刻蝕注意事項

      化學品的防護:濕法刻蝕過程中會使用到各種化學藥品,這些藥品多數具有腐蝕性和毒性,因此在進行濕法刻蝕時,必須做好化學品的防護工作,如佩戴防護手套、護目鏡等個人防護裝備,確保操作安全。

      刻蝕條件的控制:濕法刻蝕的效果受到刻蝕條件的影響,如刻蝕液的濃度、溫度、壓力等。因此,在進行濕法刻蝕時,需要根據待刻蝕材料的特性和要求,選擇合適的刻蝕條件,以保證刻蝕效果和一致性。

      避免過度刻蝕:與干法刻蝕一樣,濕法刻蝕也需要避免過度刻蝕。過度刻蝕會導致材料表面破壞,影響器件的性能和可靠性。因此,需要精確控制刻蝕時間和深度,確??涛g達到預期效果。

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