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      涂膠顯影機產能分析
      中國半導體行業發展越來越快,半導體設備的產能,即晶圓傳送方法的研究在半導體裝備研制的過程中的作用愈加關鍵。涂膠顯影設備更需傳片方法來指導裝備的布局設計,提高裝備產能,滿足不同的嚴苛需求。文章根據半導體裝備發展的歷程,給出一般裝備的產能計算公式,同時對未來晶圓傳送方法提出了建議。
      來源: | 作者:pmoe2a7d5 | 發布時間: 2020-03-27 | 16943 次瀏覽 | 分享到:

      ASML光刻機-愛姆加電子

      中國半導體行業發展越來越快,半導體設備的產能,即晶圓傳送方法的研究在半導體裝備研制的過程中的作用愈加關鍵。涂膠顯影設備更需傳片方法來指導裝備的布局設計,提高裝備產能,滿足不同的嚴苛需求。文章根據半導體裝備發展的歷程,給出一般裝備的產能計算公式,同時對未來晶圓傳送方法提出了建議。
      概述? ????????

      半導體設備涂膠顯影機是一種將不同工藝制程的機臺整合在一起,作為一個整體的制程裝備。該設備由載片系統、傳送系統和制程系統三部分構成。典型的半導體集束型裝備Track機是半導體前道工序設備中黃光區設備之一,其主要功能是光刻膠在晶圓表面的涂敷和顯影。隨著半導體裝備光刻機新技術的發展,光刻機產能也在快速提高,特別是ASML公司的TWINSCAN技術以及未來基于傳統TWINSCAN平臺的雙重曝光等新興技術的成熟,更進一步提高了光刻機的產能,而涂膠顯影設備作為與之協作的連線設備,為了匹配高產能力,半導體生產線也對機器人晶圓傳送方法提出了更為嚴苛的要求。???????

      晶圓傳送發展歷程? 

      晶圓傳送方法和集束型裝備的布局有很大關系,根據其布局的不同,布局也不同。 


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