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      6/8英寸全自動勻膠顯影機
          發布時間: 2020-03-24 15:28    

      Wafer Size: 2-12英寸(兼容尺寸依據客戶晶圓尺寸可選)
      全自動勻膠顯影一體機

      設備和各工位全封閉設計,不受外環境干擾

      設備實現2"-12"晶圓涂膠(SPIN COATING)-顯影模
       (SPIN DEV)-OVEN單元(冷熱板及增粘功能可選)

      同片盒內每個硅片可分別制定工藝運行

      自帶暫停/恢復功能,以及故障排除功能,排風自動調節(可選)

      6/8英寸全自動勻膠顯影機

      產品特點: 
            設備實現2"-12"晶圓
            涂膠、顯影模塊自帶暫停/恢復功能
            同片盒內每個硅片可分別制定工藝運行
            設備和各工位全封閉設計,不受外環境干擾
            可獨立增加層流罩,提升小環境潔凈度
            干濕分離,電液分隔
            維護省力、簡便

      一、使用領域:

            IC半導體、LED、Bumping、化合物、光通訊、OLED、MEMS等 Wafer Size 晶圓尺寸:Φ2"-8"
           Spin motor主軸轉速:0-8000rpm±1rpm
         Uniformation膜厚均勻性:<1%(參考AZ1500)
        Temperation溫度均勻性:0-250℃±0.5℃                                                      
           MTBF:≥1500小時  

       Uptime95%                                                                                          

      二、涂膠單元 Coater Uint:       膠盤:Teflon,Delrin 

         可編程移動式滴膠
         可配3路噴嘴
         正/背面去邊清洗
         主軸電機:伺服電機(高速:8000rpm)
         勻膠溫度控制(選配)
         噴嘴預清洗(選配)
         環境溫濕度控制(選配)

      三、顯影單元 Developer:                                                                 

            膠盤:Delrin 
         4路噴液(2 spray,1 streaam, 1 Dl water)
         主軸電機:伺服電機(高速:8000rpm)
         背面清洗
         滴液方式:膠泵或壓力罐
         液體溫度控制(選配)
         排風控制 
         體積尺寸:1400mm(W)×1400mm(D)×1700mm(H)



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