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      全自動勻膠顯影機
          發布時間: 2020-03-24 16:35    

      Wafer Size: 2-12英寸(兼容尺寸依據客戶晶圓尺寸可選)
      全自動勻膠顯影一體機

      設備和各工位全封閉設計,不受外環境干擾

      設備實現2"-12"晶圓涂膠(SPIN COATING)-顯影模
       (SPIN DEV)-OVEN單元(冷熱板及增粘功能可選)

      同片盒內每個硅片可分別制定工藝運行

      自帶暫停/恢復功能,以及故障排除功能,排風自動調節(可選)

      全自動勻膠顯影機

      全自動勻膠顯影

      產品特點及基本配置: 

          同一設備實現2"-12"晶圓
          涂膠、顯影模塊自帶暫停/恢復功能
          同片盒內每個硅片可分別制定工藝運行
          設備和各工位全封閉設計,不受外環境干擾
          可獨立增加層流罩,提升小環境潔凈度
          干濕分離,電液分隔
          維護省力、簡便 

            勻膠單元-顯影機-OVEN單元(HMDS+HP+CP)              

               

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