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      方形基片處理系統
          發布時間: 2020-03-25 13:43    

      方形基片處理系統主要用于PHOTOMASK、OLED
      及小型陶瓷基片的涂布、顯影、清洗等工藝

      方形基片處理系統

       

      主要用途:半自動方形基片處理系統主要用于PHOTOMASK、OLED、及小型陶瓷基片的涂布、顯影、清洗等工藝。
      一、工藝模塊配置

      1.DI水、氮氣功能

      2.高壓水功能:壓力:0~10MPa

      3.超聲波震蕩方式功能:

      4.晶體管電路產生自激振蕩

      5.超聲波振蕩頻率為:1MHz

      6.超聲波噴嘴流量:1.5L/min

      7.有機溶濟清洗功能:IPA or C3H6O

      二、技術規格:

      1.電機型號:AC伺服、高功率
      2.主軸轉速:10到3,000 rpm(單位為1 rpm)

      3.轉速精度:±2 RPM(0到3,000 rpm)

      4.加速度10到100RPM/秒(設置在單位10RPM)

      5.處理時間設定:0至99.9S(以0.1s為單位設置)

      6.報警功能:監測功能


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